Fabricación de filtros pasabanda de líneas paralelas para su aplicación en sistemas de comunicaciones 5G

Abstract

RESUMEN: En este trabajo se presenta el análisis de películas delgadas de Topas, Duroid y silicio de alta resistividad, además del diseño, fabricación y caracterización de un filtro pasabanda de líneas acopladas para sistemas de gran ancho de banda. En el capítulo 1 se presenta el marco teórico de los filtros así como su estado del arte. Después en el capítulo 2 se presenta el estudio del espesor de las películas de Topas variando su concentración y velocidad de centrifugado. Posteriormente en el capítulo 3 se diseña el filtro usando Topas como sustrato. En el capítulo 4 se cambia el su trato por Duroid, explicando la razón, para el diseño del filtro. En el capítulo 5 se fabrica y caracteriza el filtro de líneas paralelas acopladas para finalmente en el capítulo 6 dar las conclusiones y el trabajo futuro. ABSTRACT: This paper presents the analysis of thin films of Topas, Duroid and high resistivity silicon, as well as the design, manufacture and characterization of a bandpass filter with coupled lines for high bandwidth systems. Chapter 1 presents the theoretical framework of the filters as well as their state of the art. Then in chapter 2, the study of the thickness of the Topas films is presented varying its concentration and speed of centrifugation. Later in chapter 3, the filter is designed using Topas as a substrate. In chapter 4, the treatment is changed by Duroid, explaining the reason, for the design of the filter In chapter 5 the chapter of coupled parallel lines is fabricated and characterized for finally in chapter 6 to give the conclusions and future work.